• 适用于半导体等微电子设备制造商的真空泵系统

  • Edwards 的领先技术


  • 半导体加工

    我们继续革新领先技术解决方案,这些解决方案将会提升制程正常运转时间、产量、吞吐量与安全认证水平,同时通过减轻不利于环境的排放、延长产品使用寿命并降低持续服务成本,努力协调平衡往往相互冲突的更低拥有成本要求。

    所有居于领先地位的制程工具 OEM,以及全球每一家主要半导体工厂都采用了我们的系统,因为它们能够满足成熟制程与发展中制程的具体要求。提供干式真空泵、涡轮分子泵与使用点减排系统等各种系统,用来优化从轻负荷制程到超重负荷制程的各项应用的性能表现。

  • 平版印刷
    化学气相沉淀
    刻蚀
    物理气相沉淀
    计量
    离子注入
    扩散/外延附生/ALD
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    我们的成员资格

    Edwards 在全球范围内具有多重半导体成员资格。

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